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F r a u n h o f e r - I n s t i t u t f ü r Si l i z i u m t e c h n o l o g i e I S I T Integration von Mikroelektronik und Mikrosystemen | Forschung | Technologische Dienstleistung | I n n o vat i v e P r o d u k t e | Produktion Forschung und Produktion an einem Standort Drehratensensoren und ASICs auf Leadframe und in Gehäusen 2 Durchkontaktierungen durch Forschung und Entwicklung in industrieller Umge- einen Wafer bung. Halbleiter-Fertigungsequipment für 200 mm Wafer im ISIT-Reinraum (Reaktives Ionenätzen) Das Fraunhofer-Institut für Siliziumtechnologie Ausstattung (ISIT) entwickelt und fertigt Bauelemente der Das ISIT betreibt zusammen mit der Firma Vishay Siliconix Itzehoe GmbH Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik. eine Halbleiterproduktionslinie für 200 mm (8“)-Si-Wafer (Reinraum- Die modernste technologische Ausstattung fläche 2500 m2). Die Prozesslinie wird sowohl für die Entwicklung auf der Basis einer 200 mm-Silizium-Wafer- neuer Bauelemente und Prozesse als auch für die Produktion von technologie und das über Jahrzehnte Bauelementen (PowerMOS, MEMS) genutzt. Für Sonderprozesse, wie sie aufgebaute Know-how sichern dem ISIT beispielsweise in der Mikrosystemtechnik verlangt werden, und für das und seinen Kunden eine weltweit führende chemisch mechanische Polieren (CMP) stehen weitere Reinräume (650 m2) Position auf dem Gebiet. Mikrotechnische zur Verfügung. Neben den Basisprozessen der Mikrosystemtechnik Bauelemente werden für unterschiedlichste werden hoch entwickelte Verfahren beispielsweise für das hochpräzise Anwendungen benötigt und am Institut Tiefenätzen (DRIE), die Abscheidung nicht IC-kompatibler Materialien, entsprechend entwickelt. Die wichtigsten wie Piezoelektrika, die Dicklacklithographie und Galvanik, die Glas- Einsatzgebiete sind die Automobil- und abformung und die Grautonlithographie bereitgehalten. Eine besondere Verkehrstechnik, die Konsumgüterindustrie, Kompetenz besteht im Bereich des Wafer-Bondens und des Waferlevel- die Medizintechnik, die Kommunikations- und Packaging (WLP) wodurch bei verschiedenen MEMS-Bauelementen die Automatisierungstechnik. (Gyroskope, Scannerspiegel, RF-MEMS u. a.) einzigartige Qualitäten realisiert werden. Für die Charakterisierung, die Qualifizierung und die Das ISIT bietet seinen Kunden sowohl den Aufbau- und Verbindungstechnik sind weitere Laborflächen (1500 m2) Entwurf und die Systemsimulation mikro- eingerichtet. Labore für die Entwicklung von Lithium-Polymer-Akku- technischer Bauelemente an als auch die mulatoren, in denen auch eine Pilotfertigungsanlage für Bemusterungs- Bereitstellung von Prototypen und die Bemus- und Evaluierungsaufgaben betrieben wird, ergänzen das Angebot. Zur terung bis hin zur Serienvorbereitung. Erweiterung der Kapazitäten wird derzeit ein weiteres Reinraum- und Laborgebäudes geplant, dessen Fertigstellung Mitte 2012 vorgesehen Anwendungsspezifische Schaltungen (ASICs) ist. Die Einrichtungen des ISIT sind nach ISO 9001-2008 zertifiziert. für den Betrieb von Sensoren und Aktoren, werden ebenfalls vom ISIT bereitgestellt. Dienstleistungsangebot Das ISIT befasst sich darüber hinaus mit allen Das Fraunhofer ISIT hat langjährige Erfahrungen mit unterschiedlichsten wichtigen Aufgabenstellungen im Bereich Industriekooperationen. Vorrangig wird das Konzept der Technologie- der Systemintegration, der Aufbau- und plattformen, d.h. der Definition von Prozessabläufen bei denen die Verbindungstechnik (Packaging) und der kundenspezifischen Anpassungen über das Design und das Packaging Zuverlässigkeit und Qualität von erfolgen, verfolgt. Hierdurch lassen sich Angebote darstellen, die Bauelementen, Modulen und Systemen. über die technischen Spezifikationen hinaus hinsichtlich Risiko, Das Leistungsangebot wird ergänzt durch Entwicklungszeit, Entwicklungs- und Produktkosten interessant sind. In intensive Entwicklungen im Bereich der enger Zusammenarbeit mit dem am Standort ansässigen Unternehmen elektrischen Energiespeicher auf der Basis MEMS Foundry Itzehoe GmbH (MFI) kann schließlich die Serienfertigung von Lithium-Polymer-Akkumulatoren. durchgeführt werden. 3 Links außen: Waferlevel Packaging für die Leistungselektronik. IGBT-Wafer mit Lotbumps Links: 300 mm Testwafer im CMP-Labor Leistungselektronik und IC-Technologie Automatischer Hochvoltmessplatz zur Charakterisierung von Leistungsbauelementen auf Waferebene 4 PowerMOS-Wafer Leistungsmodul mit IGBTs gedünnt auf 20 µm und Dioden Die Arbeitsgruppe Leistungselektronik und IC-Technologie Eine weitere Arbeitsgruppe zur Leistungselektronik, die die entwickelt und fertigt sowohl aktive als auch passive Kompetenzen in den Anwendungsfeldern und den Schnittstellen Halbleiterbauelemente. zu den Endanwendern stärkt, ergänzt das ISIT-Angebot. Bei den aktiven Komponenten handelt es sich vor allem um Zur Weiterentwicklung neuer Halbleiter-Produktionstechniken Leistungsbauelemente wie PowerMOS Transistoren, IGBTs und werden im ISIT ausgewählte Fertigungsgeräte erprobt und Dioden. Die applikationsspezifische Auslegung der Bauelemente optimiert. So verfügt das Institut über spezielles Know-how sowie die Entwicklung neuer Device-Architekturen sind ein zu Fragen von Ätzverfahren, Abscheidung, Lithographie und besonderer F&E Schwerpunkt. Neue Prozesstechnologien Planarisierungsverfahren. Besonders das Planarisieren mittels für Anwendungen fortschrittlicher Assemblierungstechniken chemisch-mechanischem Polieren (CMP) ist eine Schlüssel- für Leistungsbauelemente auf Waferlevel sind ein weiterer technologie für die Herstellung fortschrittlicher Integrierter Forschungsschwerpunkt. Hierzu gehören u. a. angepasste Schaltungen (ICs) und Mikrosysteme. Das ISIT arbeitet intensiv Chipmetallisierungen sowie neue Verfahren der Rückseiten- auf diesem Gebiet und verfügt über eine entsprechende prozessierung ultradünner Si-Substrate. Die Arbeiten werden Infrastruktur. Ein Schwerpunkt liegt dabei in der Anwendung durch Simulations-, Entwurfs- und Testwerkzeuge unterstützt. von CMP bei der Herstellung von MEMS-Bauelementen. Hierbei profitiert das ISIT von langjährigen Erfahrungen im Aufbau und Entwurf von CMOS-Schaltkreisen. Das CMP-Anwendungslabor des ISIT ist ausgestattet mit CMP-Poliermaschinen und Anlagen für die post-CMP Die passiven Komponenten, die am ISIT entwickelt und gefertigt Reinigung sowie der zugehörigen Messtechnik für Wafer- werden, sind vor allem Chip-Kondensatoren, Präzisionswider- durchmesser von 100 bis 300 mm. Die CMP Arbeitsgruppe stände und Induktivitäten sowie entsprechende Netzwerke des ISIT kooperiert seit vielen Jahren eng mit der Peter Wolters auf Chip-Ebene. Damit verbunden ist die Evaluierung neuer AG sowie mit weiteren Herstellern von Halbleiterfertigungs- Materialien sowie deren Implementierung in bestehende geräten, mit Produzenten von Poliermitteln und -tüchern, mit Prozessabläufe. CMP-Anwendern und mit Chip- und Waferherstellern. Für unterschiedliche Anwendungen entwickelt das ISIT Einzel‑ Die Arbeiten umfassen folgende Gebiete: prozesse, Prozessmodule und vollständige Prozessabläufe. • Erprobung von CMP Anlagen und CMP Reinigungsgeräten Zusätzlich bietet das ISIT den Service der kundenspezifischen • Entwicklung von CMP Prozessen für Prozessierung von Silizium-Bauelementen in kleinen - Dielektrika (SiO2, TEOS, BPSG, low-k, ...) und mittleren Stückzahlen, basierend auf einer qualifizierten - Metalle (W, Cu, Ni, ...) Halbleiter-Prozesstechnologie. - Silizium (Wafer, poly-Si) • Testen von Slurries und Pads für CMP Im Bereich der Leistungselektronik wurde in Kooperation mit • Reinigung nach CMP Hochschulen und Unternehmen des Landes Schleswig-Holstein • Messtechnik für CMP das Kompetenzzentrum Leistungselektronik gegründet, das • Ausführung kundenspezifischer Polierprozesse für ICs und vom ISIT koordiniert wird. Mikrosysteme 5 RF-MEMS Kraftsensor Mikrosystemtechnik (MEMS) und Schaltkreisentwurf Prototyp eines Wasserfluss-Sensorsystems Wafer mit verschiedenen Fluss- Sensor-Designs 6 Drehratensensor Auf Waferebene gekapselte Zwei-Achsen- Layout eines ICs zur Ansteuerung Mikrospiegel für Projektionsanwendungen bürstenloser Motoren Die Mikrosystemtechnik ist ein abteilungsübergreifender Hochfrequenz-Mikrosysteme aus dem ISIT sind vor allem für Forschungsschwerpunkt des ISIT. Seit mehr als 25 Jahren den Einsatz in drahtlosen rekonfigurierbaren Kommunikations- arbeiten ISIT-Wissenschaftler an der Entwicklung von geräten gedacht, insbesondere werden Hochfrequenzschalter, mikroelektromechanischen Systemen (MEMS). Hierbei wird Ohmsche Schalter und deren Verkapselung auf Waferebene das komplette Spektrum von Simulation und Design über entwickelt. Technologie- und Bauelemententwicklung bis zur Endteststrategie und Zuverlässigkeitsprüfung abgedeckt. Zum Optische Mikrosysteme hat das ISIT vor allem für die optische Kern des ISIT-Leistungsangebotes gehört dabei auch die Instrumentierung von Konsumgütern entwickelt. Beispiele sind Entwicklung von Integrationtechniken, die von dem einfachen, Mikrospiegel für Laserprojektionsdisplays, optische Sensorik kostengünstigen Einbau in ein gemeinsames Gehäuse über oder Lichtmodulation. Im Bereich passiver optischer Systeme das Verkapseln der Mikrosysteme auf Waferebene (WLP) mit wird an Glaslinsen-Arrays oder Blendensystemen zur Strahl- definiertem Innendruck bis hin zur komplett monolithischen intensitätsformung gearbeitet. Integration reichen. Hierbei können die MEMS-Bauelemente auch mit geeigneter Mikroelektronik zu miniaturisierten Das ISIT hat ein großes Portfolio an Einzeltechnologien ver- Komplettsystemen hoher Funktionalität kombiniert werden. fügbar, die jeweils qualifiziert zu spezifischen MEMS-Prozess Plattformen kombiniert wurden. Sie bilden damit einen Das Kooperationskonzept des ISIT sieht vor, die entwickelten Baukasten für die Realisierung verschiedener Anwendungen. Bauelemente und Systeme dem Kunden auch als Prototypen Besonders hervorzuheben ist die PSM-X2 Technologieplatt- oder aus einer Pilotfertigung anzubieten. In Kooperation mit form, die auf Basis dicker Polysilizium-Schichten die Fertigung der am Standort ansässigen MEMS Foundry Itzehoe GmbH von Drehraten- und Beschleunigungssensoren ermöglicht und (MFI) können dann auch große Stückzahlen in Serien gefertigt für die Fertigung von Produkten für den automobilen Einsatz werden. qualifiziert ist. Das ISIT fokussiert sich bei den MEMS Anwendungen auf Die Entwicklung neuartiger Bauelemente der Mikrosystem- drei Kernbereiche: die physikalische Sensorik und Aktuatorik, technik und der Mikroelektronik setzt eine leistungsfähige auf Bauelemente und Technologien für Hochfrequenz- Arbeitsgruppe für den Schaltkreisentwurf voraus. anwendungen (RF-MEMS), sowie auf passive und aktive Die Arbeitsgruppe am ISIT hat sich auf den Entwurf von optische Mikrosysteme. analog-digitalen Schaltkreisen spezialisiert. Mit diesen Schaltungen werden die Signale von Siliziumsensoren einer In der Sensorik liegt der Schwerpunkt aktuell auf der elektronischen Auswertung zugänglich gemacht. Inertialsensorik (Beschleunigung, Drehrate, Inertial Measure- Daneben entwerfen die Schaltkreisdesigner am ISIT mikro- ment Units) sowie auf Sensoren für Strömung, mit jeweils mechanische und mikrooptische Elemente und testen integrierter Elektronik (ASICs). Für die Sensorentwicklung ihre Funktionalität vorab mittels FEM Simulation und mit stehen spezielle Technologien zur Verfügung, wie die Simulationstools zur Verhaltensmodellierung. Verwendung funktionaler Schichten aus dickem Polysilizium und das hermetische Verkapseln auf Waferebene. 7 Biotechnische Mikrosysteme Aufbringung verschiedener Wafer mit Biointerfaces auf Sensorchips elektrischen Biochips Das ISIT ist weltweit führend in der Technik der elektrischen Weitere Biosensoren erlauben kontinuierliche Messungen, Biochips. Diese gestatten den Aufbau leistungsfähiger z. B. von Stoffwechselprodukten wie Glukose oder Laktat. Biosensoren und sind die Basis für schnelle und kosten- Die Überwachung und Quantifizierung der Substanzen günstige Analysesysteme. erfolgt hierbei mittels enzymatischer Umsetzung und elektrochemischer Detektion. Im Gegensatz zu optischen Biochips wird die biochemische Reaktion direkt auf der Oberfläche der Chips elektrisch Das ISIT kooperiert im Feld der Bioanalytik eng mit dem gemessen – mit den Vorteilen der Partikeltoleranz und Itzehoer Unternehmen AJ eBiochip GmbH, einer Ausgründung der mechanischen Robustheit. Der Einsatz von Goldelektroden‑ aus dem ISIT, um einen kommerziellen Marktzugang zu diesen arrays und integrierten Referenz- und Gegenelektroden sowie neuen Technologien sicherzustellen. die Verwendung hochempfindlicher, hochselektiver Messverfahren, wie dem „Redox-Cycling“, gestatten den Aufbau leistungsfähiger Sensorsysteme. Sie können gleichzeitig verschiedene Analyte aus einer Probe detektieren. Zur einfachen Bedienbarkeit werden die elektrischen Sensorarrays in Kunststoffträger integriert. In Verbindung mit Mikrofluidik-Komponenten und integrierter Elektronik bilden sie die Basis für schnelle und kostengünstige Analysesysteme, beispielsweise für den qualitativen und quantitativen Nachweis von DNA, RNA, Proteinen und Chip mit Haptenen. Porenmenbran 8 Aufbau- und Verbindungstechnik für Mikroelektronik und -systeme Dünne Siliziumchips auf Bildsensor Details eines Wafers mit CSP-Aufbauten flexiblem Träger auf Glaswafer (Chip-Size-Packaging); Kugeldurchmesser: 300 µm Die Arbeitsgruppe „Aufbau- und Verbindungstechnik“ (AVT) nicht nur in Richtung Kosten- und Volumenreduzierung zu ist darauf spezialisiert, neue Trends und Technologien als optimieren, sondern es zu einem funktionalen Bestandteil Aufgaben wahrzunehmen und in direkter Zusammenarbeit eines Mikrosystems werden zu lassen, z.B. durch optische mit Herstellern von Baugruppen, Geräten und Materialien Elemente oder die direkte Verbindung (elektrische Durch‑ umzusetzen. So wurde schon vor mehreren Jahren das kontaktierung auf Waferebene) von MEMS und ASIC. automatische Bestücken dünner Chips auf flexiblen Leiter- Herausragende Erfolge wurden im Vakuum-Verkappen platten erprobt. Für die Verkapselung von MEMS-Bauteilen mikromechanischer Sensoren mittels eutektischem wurde das Glas-Fritt Bonden entwickelt und frühzeitig durch Waferbonding erzielt, wodurch der Weg zur Industrialisierung das effizientere metallische Bonden abgelöst. einer Drehraten-Sensorfamilie für die Automobiltechnik Auch die Entwicklungen der organischen Elektronik und geebnet werden konnte. RFID-Technologie verfolgt das ISIT aktiv. Das ISIT erweitert kontinuierlich und bedarfsorientiert sein Das ISIT verfügt über alle grundlegenden Technologien für Angebot an Testchips und -substraten, um das Einfahren und die automatisierte oder manuelle Handhabung von Mikrochips Kalibrieren von Produktionsmitteln zu erleichtern und auf und Mikrosensoren sowie deren elektrische Kontaktierung hohem Niveau qualitativ abzusichern. durch Drahtbonden und Flip-Chip Technologien. Durch die enge Verzahnung von MEMS-Technologie und Aufbautechnik an einem Standort ist das ISIT einer der führenden Forschungsdienstleister im Waferlevel-Packaging geworden. Die abteilungsübergreifend entwickelten Wafertechnologien ermöglichen es in vielen Fällen, das Packaging 9 Qualität und Zuverlässigkeit elektronischer Baugruppen Aufnahmen zur Bewertung elektronischer Baugruppen Die Qualitäts- und Fehlerbewertung von elektronischer Das thermische Management und die Zuverlässigkeits‑ Baugruppen, Bauelementen und Mikrosysteme aus der bewertung für kundenspezifische Leistungsmodule sind Vor-, Null- und Hauptserie ist eine häufig wiederkehrende weitere Schwerpunkte in dieser Gruppe. Fragestellung. Zur Darstellung der Schwachstellen setzt das ISIT die zerstörende und die nicht-zerstörende Analytik Neben diesen technologischen Arbeiten führt die (z. B. Röntgenmikroskopie, Akustikmikroskopie) ein. Darüber Arbeitsgruppe regelmäßig, teilweise mehrtägige Schulungen hinaus bewerten ISIT-Wissenschaftler das Langzeitverhalten im Institut oder in Unternehmen durch. der bleihaltigen und bleifreien Lötverbindungen. Sie gehen dabei von einer Anforderungsmatrix aus und geben Prognosen mit Hilfe von Modellrechnungen, Umwelt- und zeitraffenden Belastungstests und Schadensanalysen. Zur Umstellung auf bleifreie Elektronikfertigung führt das ISIT Projekte zum Design, zur Materialauswahl und zur Prozess‑ Testboard für die automatische anpassung für die Industrie durch. Um Herstellungsprozesse optische Inspektion (AOI) zu optimieren, werden Prozessmodelle verwendet und Muster an industriekompatiblem Equipment gefertigt. Interessant ist dieser Bereich bei der Einführung neuer Technologien wie zum Beispiel der bleifreien Löttechnik, bei einem Auftreten erhöhter Fehlerraten oder um Wettbewerbsvorteile durch kontinuierliche Verbesserungen zu erreichen. 10 Integrierte Energiesysteme Folien für die Elektroden, Stromableiter und das Gehäuse sind die Lithium-Polymer-Akkumulator- Ausgagsmaterialien von Lithium-Polymer-Akkumulatoren Produktion in Itzehoe Lithiumakkumulatoren als leistungsfähige Speicher elektrischer Neben der Entwicklung von optimierten Prototypen sind Energie erobern im raschen Tempo Einsatzbereiche auch Kleinserienfertigungen dieser angepassten Akkumulatoren auf außerhalb der portablen elektronischen Geräte. Zu diesen einer am ISIT vorhandenen Pilotfertigungslinie möglich. neuen Anwendungsfeldern gehören die Automobiltechnik, die Medizintechnik, stationäre elektrische Speicher, Luft- und Besondere Berücksichtigung in der Prozessentwicklung findet Raumfahrt etc.. Damit wird dieser Akkumulatortyp mit neuen die Übertragbarkeit der Entwicklungsergebnisse in eine sich und unterschiedlichen Anforderungen konfrontiert. anschließende industrielle Fertigung. Dies betrifft neben der elektrischen Leistungsfähigkeit sowohl Design als auch Sicherheitsaspekte. Die am ISIT entwickelte Das ISIT bietet auf dem Gebiet des Akkumulatorbaus eine Lithiumpolymerakkumulatortechnik zeichnet sich durch eine Vielzahl von Leistungen an: weit reichende Anpassbarkeit an spezielle Anforderungsprofile • Verarbeitung und Charakterisierung von Batteriematerialien wie z. B. besondere Temperaturbereiche, hohe Belastbarkeit, Langlebigkeit, erhöhte Sicherheitsanforderungen aus. Dies schließt die Konzeption angepasster Gehäuse ein. mittels Halbzellenmessungen und in Testzellen • Auswahl geeigneter Materialkombinationen und Akkudesign zur Erfüllung kundenspezifischer Anforderungsprofile • Gehäusetechnologien, Konzeption Die Lithiumpolymertechnologie basiert darauf, dass sämtliche • Messungen im Testfeld Komponenten des Akkumulators im Ausgangszustand als • Prototyping bis zur Kleinserie Folien vorliegen. Am ISIT ist die komplette Prozesskette beginnend bei der Pastenaufbereitung über das Foliengießen Darüber hinaus erstreckt sich das Leistungsangebot auch und die Konfektionierung kompletter Akkumulatoren mit auf Dienstleistungen: angepasstem Design bis hin zur elektrischen und thermo- • Erstellung von Studien mechanischen Charakterisierung vorhanden. • Schadensanalysen Somit ist es möglich, auf alle für einen Optimierungsprozess • Messtechnische Aufgaben relevanten Stellgrößen von den Elektrodenmaterialien über die Elektrolyte bis hin zum Design zuzugreifen. (elektrisch, mechanisch, Zuverlässigkeit etc.) • Beratungsservice 11 I S I T- K o o p e r at i o n s p a r t n e r K o n ta k t a m Hi g h - T e c h - S t a n d o r t I t z e h o e Fraunhofer-Institut für für Siliziumtechnologie Fraunhoferstraße 1 D-25524 Itzehoe Tel. +49 (0) 4821 / 17-4211 Fax +49 (0) 4821 / 17-4250 info@isit.fraunhofer.de www.isit.fraunhofer.de IC-Technologie Detlef Friedrich, Durchwahl -4301 detlef.friedrich@isit.fraunhofer.de Dr. Gerfried Zwicker, Durchwahl -4309 gerfried.zwicker@isit.fraunhofer.de Mikrosystemtechnik und IC-Design Prof. Bernhard Wagner, Durchwahl -4213 bernhard.wagner@ isit.fraunhofer.de Leitung Prof. Wolfgang Benecke, Durchwahl -4211 wolfgang.benecke@ isit.fraunhofer.de Jörg Eichholz, Durchwahl -4253 joerg.eichholz@isit.fraunhofer.de Biotechnische Mikrosysteme Dr. Eric Nebling, Durchwahl -4312 eric.nebling@isit.fraunhofer.de Prof. Bernhard Wagner, Durchwahl -4213 bernhard.wagner@ isit.fraunhofer.de Aufbautechnik für Mikrosysteme Qualität und Zuverlässigkeit elektronischer Baugruppen Karin Pape, Durchwahl -4229 karin.pape@isit.fraunhofer.de Strategie und Planung Prof. Ralf Dudde, Durchwahl -4212 ralf.dudde@isit.fraunhofer.de Integrierte Energiesysteme Dr. Peter Gulde, Durchwahl -4307 404 432 peter.gulde@isit.fraunhofer.de 205 77 206 Itzehoe Fraunhofer ISIT 7 206 Dr. Gerold Neumann, Durchwahl -4219 gerold.neumann@ isit.fraunhofer.de 404 206 4 Glückstadt 431 Elmshorn 23 432 Stade 1 431 434 73 Hamburg Das ISIT liegt 40 km nördlich 24 von Hamburg in Schleswig- 73 404 25 7 255 4 Buchholz 1 7 75 12 Peter Wolters AG Fraunhoferstr. 1, 25524 Itzehoe Tel. +49 (0) 4821 / 17-4303 g.moersch@peter-wolters.com www.peter-wolters.com Plan Optik AG Fraunhoferstr. 1, 25524 Itzehoe Tel. +49 (0) 4821 / 17-4227 t.hoeftmann@planoptik.com www.planoptik.com 75 433 Pinneberg AJ eBiochip Systems GmbH Fraunhoferstr. 1, 25524 Itzehoe Tel. +49 (0) 4821 / 17-4333 info@ aj-ebiochip.de www.aj-ebiochip.de Dr. Wolfgang Reinert, Durchwahl -4617 wolfgang.reinert@ isit.fraunhofer.de Presse- und Öffentlichkeitsarbeit Claus Wacker, Durchwahl -4214 claus.wacker@isit.fraunhofer.de 23 SensorDynamics AG Fraunhoferstr. 1, 25524 Itzehoe Tel. +49 (0) 4821 / 17-4106 ovl@sensordynamics.cc www.sensordynamics.at Dr. Klaus Reimer, Durchwahl -4233 klaus.reimer@isit.fraunhofer.de Stellvertreter Dr. Wolfgang Windbracke, Durchwahl -4216 wolfgang.windbracke@ isit.fraunhofer.de 431 Vishay Siliconix Itzehoe GmbH Fraunhoferstr. 1, 25524 Itzehoe Tel. +49 (0) 4821 / 17-4702 www.vishay.com 209 Holstein direkt an der A 23 in404Sichtweite der Autobahn209 ausfahrt Itzehoe Nord 4 MEMS Foundry Itzehoe GmbH Fraunhoferstraße 1 D-25524 Itzehoe Tel. +49 (0) 4821 / 17-4221 peter.merz@memsfoundry.de www.memsfoundry.de Leclanché Lithium GmbH Fraunhoferstr. 1b, 25524 Itzehoe Tel. +49 (0) 4821 / 80 40 83-20 contact@leclanche.ch www.leclanche.ch Condias GmbH Fraunhoferstr. 1b, 25524 Itzehoe Tel. +49 (0) 4821 / 80 40 87-0 info@condias.de www.condias.de IZET Innovationszentrum Fraunhoferstr. 3, 25524 Itzehoe Tel. +49 (0) 4821 / 778-0 info@izet.de, www.izet.de